Id-dar > Lingwi oħra > Il-kontenut

PSPI

Mar 10, 2017

Se refiere a poliimida fotosensible tal como Luz ultravioleta, Rayos X, haz de electrones o un haz de iones sensibbli, por Patrun de Mascara de fotolitografía puede transferirse directamente a la membrana de poliimida solubbli o premer poliimida un. añadir Para, sensibilizante en la poliimida fotosensible, se obtiene el estabilizador estabilizador de poliimida. Distinción de fotoresist y poliimida entre ordinario resistir que fotorresist ordinario también llamado agente de bloqueo de Luz, su Papel es hacer OSU de GRAFICOS pueden SER de Mascara fotolitográfica en la Izquierda mt iben ġenerali generalmente poliamida imida kapaċità dieléctrica. A continuación, polz el GRAFICO ESTARA expuesta poliimida Izquierda después de la eliminación de un Patrun deseado. Permanecer mt el agente de bloqueo de Luz de poliimida finalmente se ettaru eliminado. materjal propio el fotorresistente de poliimida como un Papel en la LITOGRAFIA es materjal un dieléctrico, dnub Acción del Medio de Trabajo solo agente de bloqueo de la Luz. Es posible acortar en gran medida el proceso, mejorar la eficiencia de la producción.